真空镀膜机

磁控溅射镀膜机

产品分类:真空镀膜机
点击次数:1072
发布时间:2019-07-18
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产品详情

应用范围:

    

    各种电器和智能终端的外壳,如电脑 、手机和家电等。可镀制金属膜、透明膜、非导膜、电磁屏蔽膜等

 

 

   

产品特点:

   该设备配置磁控溅射和电阻蒸发。镀膜工艺全自动控制,运行可靠,合格率高,生产成本低。

 

 

磁控溅射镀膜机参考选型

 

项目

技术指标

  

型号 

KSL -1200

KSL- 1600

KSL -2000

腔体

Ø1200×H800mm

Ø1600×H1000mm

Ø2000×H1200mm

工件架转速

0~60RPM(可变)

  

成膜室抽速

3.0×10-3Pa≤30min

  

极限真空度

8.0×10-5Pa

  

镀膜系统

DC、MF或RF磁控溅射源 

  

溅射靶材

C、Si 、Nb、Cr、Al、Ti 和各种化合物等 

  

膜厚控制

晶控或光控

  

控制系统

工控电脑+触摸屏