Product type
应用范围：
半导体芯片行业、太阳能光伏、LED等行业的薄膜沉积
产品特点：
特别设计的气体分布和流场，反应压强自动控制系统。保证沉积的均匀和稳定，满足有源层和钝化层对薄膜低缺陷和良好界面的要求。
CVD系统参考选型
LPCVD | MOCVD | PECVD | |
极限真空度 |
5X10-3Pa | ||
电源 | 无 | 无 | RF |
前驱体 | 气体或液体 | MO源 | 特气 |
基片温度 | 200℃-- -800℃ | 300℃-- -1500℃ | 常温-- -600℃ |
尾气处理 | 燃烧达标后排放或回收 | ||
系统控制 | SIEMENS PLC系统，PROFIBUS通讯 |
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