真空镀膜机

化学气相沉积系统(CVD)

产品分类:真空镀膜机
点击次数:1063
发布时间:2019-07-18
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产品详情

应用范围:

    

   半导体芯片行业、太阳能光伏、LED等行业的薄膜沉积

   

 

产品特点:

   特别设计的气体分布和流场,反应压强自动控制系统。保证沉积的均匀和稳定,满足有源层和钝化层对薄膜低缺陷和良好界面的要求。 

CVD系统参考选型

 

 

   LPCVD

   MOCVD

   PECVD

  极限真空度
(空载、清洁) 

  

    5X10-3Pa

  

   电源 

  无 

  无

  RF

   前驱体 

  气体或液体 

  MO源

   特气

    基片温度

   200℃-- -800℃ 

   300℃-- -1500℃ 

   常温-- -600℃ 

   尾气处理

     燃烧达标后排放或回收 

  

  系统控制 

  SIEMENS PLC系统,PROFIBUS通讯