Product type
应用范围:
LOW-E、电致变色等建筑玻璃行业。CIGS、碲化镉、晶体硅等新能源行业。平板显示、触控面板、手机前后盖等消费电子行业。
产品特点:
• 大面积镀膜,多室多靶位,灵活性大;
• 磁导向传输系统,平稳可靠;
• 镀膜前有离子源对基片进行表面清洗和活化,提高附着力,改善膜层质量;
• 真空室加Polycold捕集水蒸汽,提高抽气能力;
• 便于维修的侧装分子泵和全开式真空室门;
• 自行开发的方便的用户易操作控制软件;
• 工件架识别系统运用,工艺质量有可追溯性;
• 真空室的模块式设计,单点定位,便于拆装。
连续型镀膜线参考选型
项目 | 技术指标 |
极限真空度 | 8.0×10-4Pa |
基片尺寸 | 不限 |
镀膜系统 | DC、MF或RF磁控溅射源 ;PECVD |
溅射靶材 | C、Si 、Nb、Cr、Al、Ti 和各种化合物等 |
生产节拍 | 30秒---180秒 |
控制系统 | 工控电脑+触摸屏 |